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              含氰廢水組合處理設(shè)備工藝

              簡要描述:含氰廢水組合處理設(shè)備工藝
              qing化物是指帶有氰基(CN)的化合物,常見的qing化物為qing化鉀和qing化鈉,作為劇毒,若管理不善,泄漏到水體中就會形成含氰廢水,同樣具有毒性和難降解性。

              • 更新時間:2024-03-21
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              詳細(xì)介紹

              處理量100m3/h

              含氰廢水組合處理設(shè)備工藝含氰廢水組合處理設(shè)備工藝

              qing化物是指帶有氰基(CN)的化合物,常見的qing化物為qing化鉀和qing化鈉,作為劇毒,若管理不善,泄漏到水體中就會形成含氰廢水,同樣具有毒性和難降解性。常規(guī)的物化及生化處理工藝無法去除水中的qing化物,為使含氰廢水降低毒性,達(dá)到國家規(guī)定的標(biāo)準(zhǔn)排放,可采用絮凝絡(luò)合+氯堿法的組合工藝處理,處理后使含氰廢水的毒性大大降低,滿足《國家污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》三級標(biāo)準(zhǔn)。

                1、工藝流程及技術(shù)原理

                含氰廢水來自某物流公司qing化物泄露,主要成分為qing化鈉,導(dǎo)致周邊的污水管網(wǎng)及雨水管網(wǎng)內(nèi)qing化物超標(biāo),其濃度在10~50mg/L之間。為積極應(yīng)對,采用碳鋼處理裝置,將管網(wǎng)內(nèi)污水引至反應(yīng)裝置內(nèi),按照工藝要求,絮凝階段投加硫酸亞鐵,混合15min后進(jìn)入沉淀池,沉淀時間2h;沉淀池出水進(jìn)入氯堿法的第一級氧化,投加氫氧化鈉和次氯酸鈉,接觸氧化時間30min,二級氧化投加硫酸和次氯酸鈉,接觸氧化時間30min,氧化后出水可達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)要求。工藝流程如圖1所示。

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                1.1 絮凝絡(luò)合工藝

                CN-與多種金屬離子可形成穩(wěn)定的絡(luò)合物。大多數(shù)絡(luò)合物是無毒的,根據(jù)這一性質(zhì)用Fe2+和CN-形成[Fe(CN)6]4-,然后與金屬離子形成沉淀來處理含氰廢水。為此選用廉價的硫酸亞鐵FeSO4•7H2O為絡(luò)合藥劑,與CN-反應(yīng)生成亞鐵藍(lán)沉淀。經(jīng)過絮凝絡(luò)合反應(yīng),使qing化物與亞鐵鹽生成沉淀,降低了廢水的毒性。

                含氰廢水提升至絮凝罐,絮凝管內(nèi)設(shè)攪拌器,絮凝管內(nèi)投加硫酸亞鐵,硫酸亞鐵與含氰廢水形成絡(luò)合物,產(chǎn)生大量絮體,進(jìn)入沉淀池,絮體沉入池底部,上清液進(jìn)入后續(xù)處理工藝。

                1.2 氯堿法工藝

                氯堿氧化法分為兩步反應(yīng):

                第一步,將CN氧化成氰酸鹽,在pH值為10~11的條件下,反應(yīng)速度較快,反應(yīng)時間15~30min。其反應(yīng)方程式為:

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                第二步,將氰酸鹽進(jìn)一步氧化為N2、CO2,在pH值為8~8.5時,氰酸根的*氧化*,反應(yīng)時間30~40min。其反應(yīng)方程式為:

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                反應(yīng)裝置采用多級攪拌。一級反應(yīng)投加氫氧化鈉調(diào)節(jié)pH值至合理范圍,投加次氯酸鈉,經(jīng)多級攪拌,使氧化劑與含氰廢水充分接觸;二級反應(yīng)投加硫酸調(diào)節(jié)pH值至合理范圍內(nèi),投加次氯酸鈉,將qing化物*氧化,出水達(dá)到國家標(biāo)準(zhǔn)。

                2、工程設(shè)計及技術(shù)參數(shù)

                2.1 絮凝絡(luò)合反應(yīng)裝置

                含氰廢水進(jìn)入絮凝罐,投加硫酸亞鐵,內(nèi)設(shè)立式攪拌器,pH值控制在6~7之間,反應(yīng)完成混合液自流進(jìn)入斜板沉淀池,沉淀池底部設(shè)儲泥斗和排泥孔,定期將產(chǎn)生的污泥送至有處理資質(zhì)的單位處理。

                主要設(shè)備及構(gòu)筑物參數(shù)如表1、圖2、圖3所示,運行參數(shù)控制如表2所示。

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